Effet des paramètres de dépôt sur les couches minces de TiO2 élaborées par pulvérisation cathodique.
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Date
2021-07
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Publisher
ECOLE NATIONALE SUPERIEURE DES MINES ET DE LA METALLURGIE -ANNABA
Abstract
Dans ce travail, nous nous sommes intéressés à l'étude des couches minces à base d’oxydes de Titane (TiO2) déposées sur des substrats en verre à 400°C par pulvérisation cathodique DC magnétron. Notre travail a porté d’abord sur l’étude de l'effet du débit d’argon (15, 30, 45 et 60 sccm) sur les propriétés structurales et optiques des films obtenus. L'analyse micro- Raman de la structure cristalline met en évidence que tous les films obtenus sont caractérisés par les modes de vibration de la phase anatase. L'observation par AFM montre que la morphologie du film dépend fortement de la valeur de débit d’argon. Les mesures de guidage d'ondes optiques révèlent que tous les films obtenus sont des guides d’ondes selon les deux
polarisations TE et TM, on observe aussi une augmentation du taux de pulvérisation se traduit par une augmentation de l’épaisseur. L’UV visible montre que tous les échantillons ont une transmittance élevée avec des ondulations où on observe que plus débit d’Argon est augmenté plus le nombre des ondulations est élevés. Nous avons ensuite étudié l'effet de la vitesse de rotation de portes substrat (4, 8 et 12 tr/min) sur les propriétés du TiO2. L'analyse Micro-Raman a montré que tous les films minces obtenus sont caractérisés par des modes de vibration de la phase anatase. L’intensité des modes de vibration augmente avec la vitesse de rotation, ce qui signifie que la cristallinité est améliorée. Les mesures de guidage d'onde optique révèlent que tous les films ont des modes guidés selon les deux polarisations TE et TM avec la diminution de nombre de ces modes avec la rotation due à la diminution de l'épaisseur. L'analyse UV-vis montre une diminution de la valeur de gap optique (de 3.42 à 3.22 eV) en raison de l'amélioration de la cristallinité du film.